WO/2013/093557 is referenced by 2 patents.

[en] A chemical mechanical polishing (CMP) composition comprising: (A) inorganic particles, organic particles, or a mixture or composite thereof, (B) at least one type of an organic polymeric compound as a dispersing agent or charge reversal agent comprising a phosphonate (P(=O)(OR1)(OR2) ) or phosphonic acid ( P(=O)(OH)2) moiety or their deprotonated forms as pendant groups, wherein R1 is alkyl, aryl, alkylaryl, or arylalkyl, R2 is H, alkyl, aryl, alkylaryl, or arylalkyl, and (C) an aqueous medium.

[fr] La présente invention concerne une composition chimique de polissage mécanique (CMP) comprenant : (A) des particules inorganiques, des particules organiques ou un mélange ou composite de celles-ci, (B) au moins un type de composé polymère organique en tant qu'agent de dispersion ou agent d'inversion de charge comprenant une fraction de phosphonate (P(=O)(OR1)(OR2) ) ou d'acide phosphonique ( P(=O)(OH)2) ou bien leur forme déprotonée en tant que groupes pendants, 10 où R1 est un groupe alkyle, aryle, alkylaryle, ou arylalkyle, R2 est H, un groupe alkyle, aryle, alkylaryle, ou arylalkyle, et (C) est un milieu aqueux, 15

Title
[fr] COMPOSITION CHIMIQUE DE POLISSAGE MÉCANIQUE COMPRENANT DE LACIDE DE POLYVINYLE PHOSPHONIQUE ET SES DÉRIVÉS
[en] CHEMICAL MECHANICAL POLISHING COMPOSITION COMPRISING POLYVINYL PHOSPHONIC ACID AND ITS DERIVATIVES
Application Number
PCT/IB2011/055864
Publication Number
2013/093557
Application Date
December 21, 2011
Publication Date
June 27, 2013
Inventor
Usman Ibrahim Sheik Ansar
Yu Shen Eason Su
Venkataraman Shyam Sundar
Schade Christian
Li Yuzhuo
Raman Vijay Immanuel
Assignee
BASF
BASF SE
Usman Ibrahim Sheik Ansar
Yu Shen Eason Su
Venkataraman Shyam Sundar
Schade Christian
Li Yuzhuo
Raman Vijay Immanuel
IPC
H01L 21/304
C09K 3/14
C09G 1/02
View Original Source