WO/2012/127336 is referenced by 1 patents.

Aqueous, nitrogen-free cleaning composition, preparation and use thereof are provided. The composition having a pH of from 5 to 8 comprises (A) an amphiphilic nonionic, water-soluble or water-dispersible surfactant and (B) a metal chelating agent selected from polycarboxylic acids having at least 3 carboxylic acid groups. The composition is used for removing residues and contaminants from semiconductor substrates.

La présente invention se rapporte à une composition de nettoyage aqueuse sans azote ainsi qu'à sa préparation et à son utilisation. La composition ayant un pH de 5 à 8 comprend (A) un tensioactif non ionique amphiphile, soluble dans l'eau ou hydrodispersable et (B) un agent chélateur de métaux choisi parmi des acides polycarboxyliques ayant au moins 3 groupes d'acides carboxyliques. La composition est utilisée pour retirer les résidus et les agents de contamination de substrats à semi-conducteurs.

Title
COMPOSITION DE NETTOYAGE AQUEUSE SANS AZOTE, SA PRÉPARATION ET SON UTILISATION
AQUEOUS, NITROGEN-FREE CLEANING COMPOSITION, PREPARATION AND USE THEREOF
Application Number
PCT/IB2012/050912
Publication Number
2012/127336
Application Date
February 28, 2012
Publication Date
September 27, 2012
Inventor
ZHONG Mingjie
MELLIES Raimund
VENKATARAMAN Shyam Sundar
RAMAN Vijay Immanuel
KLIPP Andreas
Agent
FITZNER Uwe
Assignee
ZHONG Mingjie
MELLIES Raimund
VENKATARAMAN Shyam Sundar
RAMAN Vijay Immanuel
KLIPP Andreas
BASF
BASF SE
IPC
B08B 3/04
View Original Source